Electrodepunerea aliajului de Nichel-Staniu in curent continuu (DC) din ILEG (ChCl:Etilenglicol)
Fig. 2 Spectrul XRD al aliajului de NiSn obtinut prin electrodepunere pe substrat de cupru: (a) scala lineara si (b) logaritmica
Electrodepunerea aliajului de Nichel-Staniu in pulsuri de curent din ILEG (ChCl:Etilenglicol)
Tabelul 1. Conditiile de operare folosite in electrodepunerea aliajelor de Ni-Sn in curent continuu (proba NiSn-DC) si in pulsuri de curent (probele P1, P2 si P3)
Parametrii de electroliza | NiSn-DC | NiSn-P1 | NiSn-P2 | NiSn-P3 |
Tipul de ON- si OFF- al pulsului | – | TON = 5000 ms TOFF = 10,000 ms | TON = 500 ms TOFF = 1000 ms | TON = 50 ms TOFF = 100 ms |
Frecventa (Hz) | – | F = 0.067 Hz | F = 0.67 Hz | F = 6.7 Hz |
Duty cycle | – | θ = 0.33 | θ = 0.33 | θ = 0.33 |
Densitatea medie de curent | I = 6.67 mA/cm2 | iav = 6.67 mA/cm2 | iav = 6.67 mA/cm2 | iav = 6.67 mA/cm2 |
1 TON si TOFF reprezinta timpul -ON si -OFF al pulsului
Linkul catre articol: aici